渗镝渗铽-渗铽渗镝工艺应用-幕磁科技(商家)

铁硼镀镍一般采用“镍+铜+镍”（即“预镀镍+中间铜+面层亮镍”）镀层组合体系。

预镀镍的

目的是为后续镀铜提供一层电位较正的、结构致密的底镀层，---后续铜的正常施镀，防止基体被镀铜液腐蚀，主要关注镀层与基体的结合力、深镀能力等。

预镀铜的结合力、深镀能力---，但难以用于钕铁硼基体的打底，因为目前的预镀铜工艺属于络合物镀液类型，溶液电流效率低，在疏松多孔的钕铁硼基体上无法获得连续的、合格的铜镀层。

钕铁硼预镀镍多采用瓦特镀镍工艺，适量使用半亮镍添加剂，使用添加剂的目的并非追求亮度，而是可使用大的电流密度，利于镀层的快速沉积。瓦特镍同样属于简单盐镀液类型，因需要在钕铁硼基体上直接施镀，多项要求（如镀液、滚筒及操作等）与钕铁硼镀锌大致相同。

面层亮镍多采用标准的光亮镀镍工艺，渗镝渗铽厂家，目前的亮镍工艺已足够成熟，不再多述。少数厂家使用---酸盐镀镍工艺。

一般，钕铁硼预镀镍层平均厚度要求不低于4～5μm，以---零件低区镀层完全覆盖，防止后续镀铜液的腐蚀。面镍层厚度8～10μm，以---镀层的抗腐蚀能力。这样，镍层总厚度达到12～15μm。镍属于铁磁性金属，其镀层不仅不产生磁性输出，还会屏蔽钕铁硼磁体的磁性输出，镀层越厚屏蔽作用就越大。

以目前的钕铁硼“镍+铜+镍”镀层组合体系，对于0.5g以下的小尺寸磁体，可使其磁性能衰减10～15%。如何减少电镀镍层的使用量但又不影响后续镀铜和镀层防腐，是解决或---问题的关键，此为钕铁硼镀镍的一大难点。

磁体表面磷化处理的过程为：除油***水洗***酸洗***水洗***表调***磷化处理***封闭干燥。

除油酸洗与电镀前处理相同。表调是对钕铁硼磁体表面进行适应磷化膜生成的专项表面处理。钕铁硼磁体表调一般采用弱酸浸泡，---磁体表面合金组分，以到达有利于磷化膜生成的目的。

磷化工艺目前主要采用商品化磷化液生产。商品化磷化液分成锌系、铁系、锰系、二元、三元、多元等品种，各体系有各自的优势和不足，所以，在钕铁硼磷化生产应用中，各磁体生产厂家会因采购价格，使用效果的不同，采用自己认为合适的供应品种。有部分钕铁硼产品要求镀锌后磷化，镀锌后磷化应该采用锌系磷化液或含锌的多元磷化液。

磷化工艺在温度方面分为高温、中温、常温三种类型。高温工艺一般膜层厚，磷化膜密度高，厚度大；常温工艺一般膜层薄；中温工艺介于两者之间。磁材厂家多采用常温工艺，但常温工艺也需要温度控制以---温度稳定（15℃-35℃）。

磷化后的生锈问题

有读者反应说磁材在磷化后还是会出现生锈的现象，渗镝渗铽，造成这种现象的原因有很多，例如：磷化池中磷化剂的浓度不够，导致产生的磷化膜太薄或疏松，不能---的隔绝空气；磷化后水洗不干净，或水洗池酸性过高，导致有酸性物质残留在磁材上，酸液破坏磷化膜导致生锈；此外还应检查除油是否---，除油不净也会影响磷化效果。

为---磷化效果，在磷化过程中需---注意磷化液成分配比，---适当的温度；磷化时间控制在10-15分钟；采用挂装或减少装载量，---磁材间有一定间隙，能够磷化充分。